由于摆阀门的腐蚀环境中出色的可靠性,正常运行的过程可以显着增加的产量。
半导体制造商正在积极努力降低成本,提高系统运行时间,延长服务时间,并减少日常服务操作所需的时间。首先,他们要求能适应过程。重点是快速吞吐量和高度不同类型的小批量生产。许多控制阀不能满足所有这些要求。
维持一个稳定的过程压力是另一个血浆中的重要性日益增强的要求,蚀刻和沉积过程。压力稳定,导致吞吐量的增加,改善微观结构,并在缺陷数量的减少对加工的圆片。原则上,一个进程内室压力可以控制调节气体的投入。虽然这种方法适用于多种应用,要求越来越高的半导体工艺要求控制气体流量和相互独立进程的压力。